Sic Ceramic Target Silicon Carbide Sputtering Target untuk Pelapisan, batang Sic, batang silikon untuk teknik mesin

Deskripsi Singkat:


Rincian produk

Label Produk

Mengikuti teori “kualitas, layanan, kinerja, dan pertumbuhan”, kami telah menerima kepercayaan dan pujian dari pembeli domestik dan seluruh dunia untuk Sertifikat IOS China 99,5%Target Keramik SicTarget Sputtering Silikon Karbida untuk Pelapisan, Tujuan utama kami adalah menyediakan kualitas yang baik, harga kompetitif, pengiriman yang memuaskan, dan layanan terbaik kepada pelanggan kami di seluruh dunia.
Mengikuti teori "kualitas, layanan, kinerja dan pertumbuhan", kami telah menerima kepercayaan dan pujian dari pembeli domestik dan seluruh dunia untukTarget Sputtering Silikon Karbida Cina, Target Keramik Sic, Kami sekarang memiliki sistem kontrol kualitas yang ketat dan lengkap, yang memastikan bahwa setiap produk dapat memenuhi persyaratan kualitas pelanggan.Selain itu, semua barang kami telah diperiksa secara ketat sebelum pengiriman.

Deskripsi Produk

Komposit karbon/karbon(selanjutnya disebut "C/C atau CFC”) adalah sejenis material komposit yang berbahan dasar karbon dan diperkuat dengan serat karbon dan produknya (carbon fiber preform).Ia memiliki kelembaman karbon dan kekuatan serat karbon yang tinggi.Ia memiliki sifat mekanik yang baik, tahan panas, tahan korosi, redaman gesekan dan karakteristik konduktivitas termal dan listrik

CVD-SiCpelapisan memiliki karakteristik struktur seragam, bahan kompak, tahan suhu tinggi, tahan oksidasi, kemurnian tinggi, tahan asam & alkali dan reagen organik, dengan sifat fisik dan kimia yang stabil.

Dibandingkan dengan bahan grafit dengan kemurnian tinggi, grafit mulai teroksidasi pada suhu 400C, yang akan menyebabkan hilangnya bubuk karena oksidasi, yang mengakibatkan pencemaran lingkungan pada perangkat periferal dan ruang vakum, serta meningkatkan pengotor pada lingkungan dengan kemurnian tinggi.

Namun pelapisan SiC dapat menjaga kestabilan fisik dan kimia pada suhu 1600 derajat, Hal ini banyak digunakan dalam industri modern, khususnya industri semikonduktor.

Perusahaan kami menyediakan layanan proses pelapisan SiC dengan metode CVD pada permukaan grafit, keramik dan material lainnya, sehingga gas khusus yang mengandung karbon dan silikon bereaksi pada suhu tinggi untuk memperoleh molekul SiC dengan kemurnian tinggi, molekul yang diendapkan pada permukaan bahan yang dilapisi, membentuk lapisan pelindung SIC.SIC yang terbentuk terikat kuat pada dasar grafit, memberikan sifat khusus pada dasar grafit, sehingga membuat permukaan grafit menjadi kompak, bebas Porositas, tahan suhu tinggi, tahan korosi dan tahan oksidasi.

 Pemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafit

Fitur utama:

1. Ketahanan oksidasi suhu tinggi:

ketahanan oksidasinya masih sangat baik pada suhu setinggi 1600 C.

2. Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.

3. Ketahanan erosi: kekerasan tinggi, permukaan kompak, partikel halus.

4. Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.

 

Spesifikasi Utama Pelapis CVD-SIC:

SiC-CVD

Kepadatan

(g/cc)

3.21

Kekuatan lentur

(Mpa)

470

Ekspansi termal

(10-6/K)

4

Konduktivitas termal

(W/mK)

300

Gambar Detil

Pemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafitPemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafitPemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafitPemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafitPemrosesan pelapisan SiC pada suseptor MOCVD permukaan grafit

informasi perusahaan

111

Peralatan Pabrik

222

Gudang

333

Sertifikasi

Sertifikasi22

 


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • Obrolan Daring WhatsApp!