Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Lapisan SiC Gambar Unggulan

Deskripsi Singkat:

Spesifikasi Teknis	dokter hewan-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)	≥1,85
Kadar Abu (PPM)	≤500
Kekerasan Pantai	≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)	≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)	≥40
Kuat Tekan (Mpa)	≥70
Maks. Ukuran Butir (μm)	≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C	≤4.4*10-6

Kirim email ke kami Unduh sebagai PDF

Detail Produk

Label Produk

DisesuaikanPemanas Grafit untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Spesifikasi Teknis	dokter hewan-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)	≥1,85
Kadar Abu (PPM)	≤500
Kekerasan Pantai	≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)	≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)	≥40
Kuat Tekan (Mpa)	≥70
Maks. Ukuran Butir (μm)	≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C	≤4.4*10-6

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Sebelumnya: Pemanas Grafit Khusus Untuk Zona Panas / Medan Termal Grafit

Berikutnya: Pemanas grafit Silikon karbida (SiC) Lapisan SiC dilapisi SiC

PRODUK TERKAIT

Obrolan Daring WhatsApp!