English

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Lapisan SiC Gambar Unggulan
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, lapisan SiC

Deskripsi Singkat:

Spesifikasi Teknis

dokter hewan-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)

≥1,85
Kadar Abu (PPM)

≤500
Kekerasan Pantai

≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)

≥40
Kuat Tekan (Mpa)

≥70
Maks. Ukuran Butir (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6


Unduh sebagai PDF

Detil Produk

Label Produk

Spesifikasi Teknis

dokter hewan-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)

≥1,85
Kadar Abu (PPM)

≤500
Kekerasan Pantai

≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)

≥40
Kuat Tekan (Mpa)

≥70
Maks. Ukuran Butir (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

    • PRODUK TERKAIT

    Obrolan Daring WhatsApp!