Depozisyon vapè chimik (CVD) refere a pwosesis pou depoze yon fim solid sou sifas yon Silisyòmwaferatravè yon reyaksyon chimik nan yon melanj gaz. Dapre kondisyon yo reyaksyon diferan (presyon, précurseur), li ka divize an divès kalite modèl ekipman.
Pou ki pwosesis de aparèy sa yo itilize?
PECVD(Plasma Enhanced) ekipman se pi anpil ak pi souvan itilize, yo itilize nan OX, Nitrure, pòtay metal, kabòn amorphe, elatriye; LPCVD (Low Power) anjeneral yo itilize nan Nitrure, Poly, TEOS.
Ki prensip la?
PECVD-yon pwosesis ki parfe konbine enèji plasma ak CVD. Teknoloji PECVD sèvi ak plasma ba-tanperati pou pwovoke egzeyat lumineux nan katod chanm pwosesis la (sa vle di, plato echantiyon) anba presyon ki ba. Egzeyat lumineux sa a oswa lòt aparèy chofaj ka ogmante tanperati echantiyon an nan yon nivo predetèmine, ak Lè sa a, prezante yon kantite gaz pwosesis kontwole. Gaz sa a sibi yon seri reyaksyon chimik ak plasma, epi finalman fòme yon fim solid sou sifas echantiyon an.
LPCVD - Ba-presyon depo chimik vapè (LPCVD) fèt pou diminye presyon opere gaz reyaksyon an nan raktor a apeprè 133Pa oswa mwens.
Ki karakteristik yo chak?
PECVD - Yon pwosesis ki parfe konbine enèji plasma ak CVD: 1) Operasyon ba-tanperati (evite domaj tanperati ki wo nan ekipman an); 2) kwasans rapid fim; 3) Pa serye sou materyèl, OX, Nitrure, pòtay metal, kabòn amorphe tout ka grandi; 4) Gen yon sistèm siveyans nan plas, ki ka ajiste resèt la atravè paramèt ion, to koule gaz, tanperati ak epesè fim.
LPCVD - Fim mens depoze pa LPCVD pral gen pi bon pwoteksyon etap, bon konpozisyon ak kontwòl estrikti, pousantaj depo segondè ak pwodiksyon. Anplis de sa, LPCVD pa mande pou gaz konpayi asirans, kidonk li redwi anpil sous polisyon patikil epi li lajman ki itilize nan endistri semi-conducteurs ki gen gwo valè pou depo fim mens.
Byenveni nenpòt kliyan soti nan tout mond lan vizite nou pou yon diskisyon plis!
https://www.vet-china.com/
https://www.vet-china.com/cvd-coating/
https://www.vet-china.com/silicon-carbide-sic-ceramic/
Tan pòs: 24 jiyè 2024