Često smo orijentirani na kupce, a naš krajnji cilj je postati ne samo vjerojatno najugledniji, pouzdan i pošten dobavljač, već i partner za naše klijente za super najniže cijene Kina 1200c plazma poboljšano kemijsko taloženje iz parePecvdVacuum Funace, kako biste saznali više o tome što možemo učiniti za vas, kontaktirajte nas u bilo koje vrijeme. Radujemo se uspostavljanju dobrih i dugoročnih poslovnih odnosa s vama.
Često orijentirani na kupce, a naš krajnji cilj je postati ne samo vjerojatno najugledniji, pouzdan i pošten dobavljač, već i partner za naše klijente zaKina Plazma pojačano kemijsko taloženje iz pare, Pecvd, Naša napredna oprema, izvrsno upravljanje kvalitetom, sposobnost istraživanja i razvoja smanjuju našu cijenu. Cijena koju nudimo možda nije najniža, ali jamčimo da je apsolutno konkurentna! Dobrodošli da nas odmah kontaktirate za budući poslovni odnos i zajednički uspjeh!
Ugljik / ugljični kompoziti(u daljnjem tekstu "C / C ili CFC”) je vrsta kompozitnog materijala koji se temelji na ugljiku i ojačan ugljičnim vlaknima i njegovim proizvodima (preforma ugljičnih vlakana). Ima i inerciju ugljika i veliku čvrstoću ugljičnih vlakana. Ima dobra mehanička svojstva, otpornost na toplinu, otpornost na koroziju, prigušenje trenja i karakteristike toplinske i električne vodljivosti
CVD-SiCpremaz ima karakteristike ujednačene strukture, kompaktnog materijala, otpornosti na visoke temperature, otpornosti na oksidaciju, visoke čistoće, otpornosti na kiseline i lužine i organskog reagensa, sa stabilnim fizičkim i kemijskim svojstvima.
U usporedbi s grafitnim materijalima visoke čistoće, grafit počinje oksidirati na 400C, što će uzrokovati gubitak praha zbog oksidacije, što će rezultirati zagađenjem okoliša perifernim uređajima i vakuumskim komorama, te povećati nečistoće u okolišu visoke čistoće.
Međutim, SiC premaz može održati fizičku i kemijsku stabilnost na 1600 stupnjeva, naširoko se koristi u modernoj industriji, posebno u industriji poluvodiča.
Naša tvrtka pruža usluge procesa prevlačenja SiC metodom CVD na površini grafita, keramike i drugih materijala, tako da posebni plinovi koji sadrže ugljik i silicij reagiraju na visokoj temperaturi kako bi se dobile molekule SiC visoke čistoće, molekule taložene na površini presvučenih materijala, formiranje SIC zaštitnog sloja. Formirani SIC je čvrsto vezan za grafitnu bazu, dajući grafitnoj bazi posebna svojstva, čineći tako površinu grafita kompaktnom, bez poroznosti, otpornom na visoke temperature, otpornošću na koroziju i oksidaciju.
Glavne karakteristike:
1. Otpornost na oksidaciju pri visokim temperaturama:
otpornost na oksidaciju je još uvijek vrlo dobra kada je temperatura visoka do 1600 C.
2. Visoka čistoća: izrađeno kemijskim taloženjem iz pare pod uvjetima kloriranja na visokoj temperaturi.
3. Otpornost na eroziju: visoka tvrdoća, kompaktna površina, fine čestice.
4. Otpornost na koroziju: kiseline, lužine, soli i organski reagensi.
Glavne specifikacije CVD-SIC premaza:
| SiC-CVD | ||
| Gustoća | (g/cc)
| 3.21 |
| Čvrstoća na savijanje | (Mpa)
| 470 |
| Toplinska ekspanzija | (10-6/K) | 4
|
| Toplinska vodljivost | (W/mK) | 300
|
