SiC premaz/obložena grafitna podloga/ladica za poluvodiče

Kratki opis:

VET Energy Graphite Susceptor obložen SiC za epitaksijalni rast je proizvod visokih performansi dizajniran da pruži dosljednu i pouzdanu izvedbu tijekom duljeg razdoblja.Ima super dobru otpornost na toplinu i toplinsku ujednačenost, visoku čistoću, otpornost na eroziju, što ga čini savršenim rješenjem za aplikacije obrade pločica.

Pošaljite nam e-poštu Preuzmite kao PDF

Pojedinosti o proizvodu

Oznake proizvoda

SiC premaz/prevučen grafitnim susceptorom za poluvodiče

Grafitni susceptor obložen SiC ključna je komponenta koja se koristi u različitim procesima proizvodnje poluvodiča.Koristimo našu patentiranu tehnologiju za izradu nosača od silicij-karbida izuzetno visoke čistoće, dobre ujednačenosti premaza i izvrsnog životnog vijeka, kao i visoke kemijske otpornosti i svojstava toplinske stabilnosti.

Značajke:
· Izvrsna otpornost na toplinski udar
· Izvrsna otpornost na fizičke udarce
· Izvrsna kemijska otpornost
· Super visoka čistoća
· Dostupnost u složenom obliku
·Upotrebljivo u oksidirajućoj atmosferi

Primjena:

Tipična svojstva osnovnog grafitnog materijala:

Prividna gustoća:	1,85 g/cm3
Električni otpor:	11 μΩm
Čvrstoća na savijanje:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Tvrdoća po Shoru:	58
Pepeo:	<5 ppm
Toplinska vodljivost:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

KVB SiC薄膜基本物理性能 Osnovna fizikalna svojstva CVD SiCpremazivanje
性质 / Vlasništvo	典型数值 / Tipična vrijednost
晶体结构 / Kristalna struktura	FCC β faza 多晶，主要为（111）取向
密度 / Gustoća	3,21 g/cm³
硬度 / Tvrdoća	2500 维氏硬度（500g opterećenja）
晶粒大小 / Veličina zrna	2~10 μm
纯度 / Kemijska čistoća	99,99995%
热容 / toplinski kapacitet	640 J·kg^-1·K^-1
升华温度 / Temperatura sublimacije	2700 ℃
抗弯强度 / Čvrstoća na savijanje	415 MPa RT 4 točke
杨氏模量 / Youngov modul	430 Gpa 4pt zavoj, 1300 ℃
导热系数 / Toplinska vodljivost	300 W·m^-1·K^-1
热膨胀系数 / toplinska ekspanzija (CTE)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy pravi je proizvođač prilagođenih proizvoda od grafita i silicijevog karbida s različitim premazima kao što su SiC premaz, TaC premaz, stakleni ugljik, pirolitički ugljik itd., može isporučiti različite prilagođene dijelove za poluvodičku i fotonaponsku industriju.

Naš tehnički tim dolazi iz vrhunskih domaćih istraživačkih institucija i može vam pružiti profesionalnija materijalna rješenja.

Kontinuirano razvijamo napredne procese kako bismo osigurali naprednije materijale i razvili smo ekskluzivnu patentiranu tehnologiju koja može učiniti vezu između premaza i podloge čvršćom i manje sklonom odvajanju.

Srdačno vas pozdravljamo da posjetite našu tvornicu, idemo dalje razgovarati!