सेमीकंडक्टर सीवीडी उपकरण में पीईसीवीडी और एलपीसीवीडी के बीच क्या अंतर है?

रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) सिलिकॉन की सतह पर एक ठोस फिल्म जमा करने की प्रक्रिया को संदर्भित करता हैवफ़रगैस मिश्रण की रासायनिक प्रतिक्रिया के माध्यम से। विभिन्न प्रतिक्रिया स्थितियों (दबाव, अग्रदूत) के अनुसार, इसे विभिन्न उपकरण मॉडल में विभाजित किया जा सकता है।

सेमीकंडक्टर सीवीडी उपकरण (1)
इन दोनों उपकरणों का उपयोग किन प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है?
पीईसीवीडी(प्लाज्मा संवर्धित) उपकरण सबसे अधिक संख्या में और सबसे अधिक उपयोग किए जाने वाले उपकरण हैं, जिनका उपयोग ओएक्स, नाइट्राइड, मेटल गेट, अनाकार कार्बन, आदि में किया जाता है; एलपीसीवीडी (लो पावर) का उपयोग आमतौर पर नाइट्राइड, पॉली, टीईओएस में किया जाता है।
सिद्धांत क्या है?
पीईसीवीडी-एक प्रक्रिया जो प्लाज्मा ऊर्जा और सीवीडी को पूरी तरह से जोड़ती है। पीईसीवीडी तकनीक कम दबाव के तहत प्रक्रिया कक्ष (यानी, नमूना ट्रे) के कैथोड पर चमक निर्वहन को प्रेरित करने के लिए कम तापमान वाले प्लाज्मा का उपयोग करती है। यह ग्लो डिस्चार्ज या अन्य हीटिंग उपकरण नमूने के तापमान को पूर्व निर्धारित स्तर तक बढ़ा सकता है, और फिर नियंत्रित मात्रा में प्रक्रिया गैस पेश कर सकता है। यह गैस रासायनिक और प्लाज्मा प्रतिक्रियाओं की एक श्रृंखला से गुजरती है, और अंततः नमूने की सतह पर एक ठोस फिल्म बनाती है।

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एलपीसीवीडी - कम दबाव वाले रासायनिक वाष्प जमाव (एलपीसीवीडी) को रिएक्टर में प्रतिक्रिया गैस के ऑपरेटिंग दबाव को लगभग 133Pa या उससे कम करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।
प्रत्येक की विशेषताएँ क्या हैं?
पीईसीवीडी - एक प्रक्रिया जो प्लाज्मा ऊर्जा और सीवीडी को पूरी तरह से जोड़ती है: 1) कम तापमान संचालन (उपकरण को उच्च तापमान क्षति से बचाना); 2) तेजी से फिल्म विकास; 3) सामग्री के बारे में नुक्ताचीनी नहीं, ओएक्स, नाइट्राइड, मेटल गेट, अनाकार कार्बन सभी बढ़ सकते हैं; 4) एक इन-सीटू मॉनिटरिंग सिस्टम है, जो आयन मापदंडों, गैस प्रवाह दर, तापमान और फिल्म की मोटाई के माध्यम से रेसिपी को समायोजित कर सकता है।
एलपीसीवीडी - एलपीसीवीडी द्वारा जमा की गई पतली फिल्मों में बेहतर चरण कवरेज, अच्छी संरचना और संरचना नियंत्रण, उच्च जमाव दर और आउटपुट होगा। इसके अलावा, एलपीसीवीडी को वाहक गैस की आवश्यकता नहीं होती है, इसलिए यह कण प्रदूषण के स्रोत को काफी कम कर देता है और पतली फिल्म जमाव के लिए उच्च मूल्य वर्धित अर्धचालक उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

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पोस्ट समय: जुलाई-24-2024
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