Pono kekahi mau mea organik a me nā mea ʻole e komo i ka hana semiconductor. Eia kekahi, no ka mea, e hana mau ʻia ke kaʻina hana i loko o kahi lumi maʻemaʻe me ke komo ʻana o ke kanaka, semiconductorwafersua haumia ʻia e nā mea haumia like ʻole.
Wahi a ke kumu a me ke ʻano o nā mea haumia, hiki ke hoʻokaʻawale ʻia lākou i ʻehā mau ʻāpana: nā ʻāpana, nā mea kūlohelohe, nā ion metala a me nā oxides.
1. Nā ʻāpana:
ʻO nā ʻāpana he mau polymers, photoresists a me nā haumia etching.
ʻO ia mau mea haumia e hilinaʻi maʻamau i nā mana intermolecular e adsorb ma ka ʻili o ka wafer, e pili ana i ka hoʻokumu ʻana i nā kiʻi geometric a me nā ʻāpana uila o ke kaʻina hana photolithography.
Hoʻopau nui ʻia ia mau mea haumia ma o ka hoʻohaʻahaʻa ʻana i ko lākou wahi pili me ka ʻili o kawaferma o ke kino a kemika paha.
2. Mea olaola:
ʻO nā kumu o nā mea haumia he ākea ākea, e like me ka aila ʻili kanaka, ka bacteria, ka aila mīkini, ka momona momona, ka photoresist, nā mea hoʻomaʻemaʻe hoʻomaʻemaʻe, etc.
ʻO ia mau mea haumia e hana maʻamau i kahi kiʻiʻoniʻoni organik ma ka ʻili o ka wafer e pale ai i ka wai hoʻomaʻemaʻe mai ka hiki ʻana i ka ʻili o ka wafer, e hopena i ka hoʻomaʻemaʻe ʻole ʻana o ka ʻili wafer.
Hoʻopau pinepine ʻia ka wehe ʻana o ia mau mea haumia i ka hana mua o ka hoʻomaʻemaʻe ʻana, me ka hoʻohana nui ʻana i nā ʻano kemika e like me ka sulfuric acid a me ka hydrogen peroxide.
3. Iona metala:
ʻO nā mea haumia metala maʻamau he hao, keleawe, aluminika, chromium, hao hao, titanium, sodium, potassium, lithium, a me nā mea ʻē aʻe.
Hoʻopau pinepine ʻia kēia ʻano haumia e nā ʻano kemika ma o ka hoʻokumu ʻana i nā paʻakikī ion metala.
4. ʻOxide:
I ka wā semiconductorwafersʻike ʻia i kahi kaiapuni i loaʻa ka oxygen a me ka wai, e hoʻokumu ʻia kahi papa oxide kūlohelohe ma ka ʻili. ʻO kēia kiʻiʻoniʻoni oxide e keʻakeʻa i nā kaʻina hana i ka hana semiconductor a loaʻa pū kekahi mau mea haumia metala. Ma lalo o kekahi mau kūlana, e hana lākou i nā hemahema uila.
Hoʻopau pinepine ʻia ka wehe ʻana o kēia kiʻiʻoniʻoni oxide ma ka hoʻoinu ʻana i ka waika hydrofluoric dilute.
Kaʻina hoʻomaʻemaʻe maʻamau
Hoʻopili ʻia nā mea haumia ma ka ʻili o ka semiconductorwafershiki ke hoʻokaʻawale ʻia i ʻekolu mau ʻano: molecular, ionic a me atomic.
Ma waena o lākou, nāwaliwali ka ikaika adsorption ma waena o nā molecular impurities a me ka ʻili o ka wafer, a maʻalahi kēia ʻano o nā ʻāpana haumia e wehe. ʻO lākou ka hapa nui o nā meaʻaila hinu me nā hiʻohiʻona hydrophobic, hiki ke hāʻawi i ka masking no ka ionic a me ka atomic impurities e hoʻohaumia i ka ʻili o nā wafers semiconductor, ʻaʻole kūpono i ka wehe ʻana i kēia mau ʻano haumia ʻelua. No laila, ke hoʻomaʻemaʻe kemika i nā wafers semiconductor, pono e hoʻoneʻe mua ʻia nā mea haumia molekala.
No laila, ke kaʻina hana maʻamau o semiconductorwaferʻO ke kaʻina hana hoʻomaʻemaʻe:
De-molecularization-deionization-de-atomization-deionized holoi wai.
Eia kekahi, i mea e wehe ai i ka papa ʻokikene maoli ma ka ʻili o ka wafer, pono e hoʻohui ʻia kahi ʻanuʻu waika amino dilute. No laila, ʻo ka manaʻo o ka hoʻomaʻemaʻe ʻana, ʻo ia ka wehe mua ʻana i ka palaka ma luna o ka ʻili; a laila e hoʻoheheʻe i ka ʻāpana oxide; hoʻopau hope i nā ʻāpana a me nā mea hoʻoheheʻe metala, a hoʻopaʻa i ka ʻili i ka manawa like.
Nā ʻano hoʻomaʻemaʻe maʻamau
Hoʻohana pinepine ʻia nā ʻano kemika no ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i nā wafers semiconductor.
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe kemika e pili ana i ke kaʻina hana o ka hoʻohana ʻana i nā mea hoʻokalakupua a me nā mea hoʻoheheʻe kūlohelohe e hana ai a hoʻopau i nā haumia a me nā ʻaila ʻaila ma ka ʻili o ka wafer e hoʻopau i nā haumia, a laila holoi me ka nui o ka wai deionized wela a me ke anuanu e loaʻa ai. he ili maemae.
Hiki ke hoʻokaʻawale ʻia ka hoʻomaʻemaʻe kemika i loko o ka hoʻomaʻemaʻe kemika pulu a me ka hoʻomaʻemaʻe kemika maloʻo.
Hoʻomaʻemaʻe kemika pulu
1. Hoomaemae kemika pulu:
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe kemika wai ka mea nui i ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i ka hopena, ka holoi ʻana i ka mīkini, ka hoʻomaʻemaʻe ultrasonic, ka hoʻomaʻemaʻe megasonic, ka hoʻoheheʻe ʻana, etc.
2. ʻO ka hoʻopaʻa ʻana:
ʻO ka hoʻohaʻahaʻa ʻana he ala ia e wehe ai i ka ʻili o ka ʻili ma o ka hoʻoinu ʻana i ka wafer i loko o kahi hopena kemika. ʻO ia ke ʻano hana maʻamau i ka hoʻomaʻemaʻe kemika pulu. Hiki ke hoʻohana ʻia nā haʻina like ʻole no ka wehe ʻana i nā ʻano mea haumia ma ka ʻili o ka wafer.
ʻO ka mea maʻamau, ʻaʻole hiki i kēia ʻano ke hoʻopau loa i nā haumia ma ka ʻili o ka wafer, no laila e hoʻohana pinepine ʻia nā ana kino e like me ka hoʻomehana ʻana, ka ultrasound, a me ka hoʻoulu ʻana i ka wā e hoʻolulu ana.
3. Ka holoi mīkini:
Hoʻohana pinepine ʻia ka ʻōpala mīkini e wehe i nā ʻāpana a i ʻole nā koena organik ma luna o ka ʻili o ka wafer. Hiki ke hoʻokaʻawale ʻia i ʻelua ʻano:ka holoi lima a me ka holoi ʻana me ka wiper.
Holoi limaʻo ia ke ʻano holoi maʻalahi. Hoʻohana ʻia kahi pulupulu kila kila no ka hoʻopaʻa ʻana i ka pōpō i hoʻoluʻu ʻia i loko o ka ethanol anhydrous a i ʻole nā mea hoʻoheheʻe ʻokoʻa ʻē aʻe a hamo mālie i ka ʻili o ka wafer ma ka ʻaoʻao hoʻokahi e wehe i ke kiʻiʻoniʻoni, ka lepo, ke koena kelu a i ʻole nā mea paʻa paʻa. He maʻalahi kēia ʻano hana i nā ʻōpala a me ka haumia koʻikoʻi.
Hoʻohana ka wiper i ka hoʻololi mechanical e hamo i ka ʻili o ka wafer me kahi pulupulu palupalu a i ʻole kahi pulupulu hui ʻia. ʻO kēia ʻano hana e hoʻemi nui i nā ʻōpala ma ka wafer. ʻAʻole e ʻoki ka wiper kiʻekiʻe i ka wafer ma muli o ka nele o ka friction mechanical, a hiki ke hoʻoneʻe i ka contamination i loko o ke kahawai.
4. Ultrasonic hoʻomaʻemaʻe:
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe kani ultrasonic kahi hana hoʻomaʻemaʻe i hoʻohana nui ʻia i ka ʻoihana semiconductor. ʻO kāna mau pōmaikaʻi he hopena hoʻomaʻemaʻe maikaʻi, hana maʻalahi, a hiki ke hoʻomaʻemaʻe i nā mea paʻakikī a me nā ipu.
Aia kēia ʻano hoʻomaʻemaʻe ma lalo o ka hana a nā hawewe kani ultrasonic ikaika (ʻo ka frequency ultrasonic maʻamau ʻo 20s40kHz), a e hana ʻia nā ʻāpana liʻiliʻi a paʻa i loko o ka wai. ʻO ka ʻāpana liʻiliʻi e hoʻopuka i kahi ʻūhā lua kokoke. I ka nalo ʻana o ka puʻupuʻu lua, e hoʻoulu ʻia kahi kaomi kūloko ikaika ma kahi kokoke, e uhaʻi i nā mea paʻa kemika i loko o nā molekala e hoʻopau i nā haumia ma ka ʻili wafer. ʻOi aku ka maikaʻi o ka hoʻomaʻemaʻe kani ultrasonic no ka wehe ʻana i nā koena flux insoluble a i ʻole insoluble.
5. Hoʻomaʻemaʻe Megasonic:
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe megasonic ʻaʻole wale nā pono o ka hoʻomaʻemaʻe ultrasonic, akā lanakila pū kekahi i kona mau hemahema.
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe Megasonic kahi ʻano o ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i nā wafers ma o ka hoʻohui ʻana i ka hopena vibration frequency kiʻekiʻe (850kHz) me ka hopena kemika o nā mea hoʻomaʻemaʻe kemika. I ka wā hoʻomaʻemaʻe, hoʻokē ʻia nā molekala hoʻonā e ka nalu megasonic (hiki i ka wikiwiki koke ke hiki i 30cmVs), a ke hoʻomau mau nei ka hawewe wai kiʻekiʻe i ka ʻili o ka wafer, i hoʻopili ʻia nā mea haumia a me nā ʻāpana maikaʻi i ka ʻili o ka. Wehe ʻia ka wafer a komo i ka hoʻomaʻemaʻe. ʻO ka hoʻohui ʻana i nā surfactants acidic i ka hoʻomaʻemaʻe hoʻomaʻemaʻe, ma ka ʻaoʻao hoʻokahi, hiki ke hoʻokō i ke kumu o ka wehe ʻana i nā ʻāpana a me nā mea organik ma ka ʻili polishing ma o ka adsorption o nā surfactants; ma ka ʻaoʻao ʻē aʻe, ma o ka hoʻohui ʻana o nā surfactants a me ka acidic environment, hiki iā ia ke hoʻokō i ke kumu o ka wehe ʻana i ka contamination metala ma ka ʻili o ka pepa polishing. Hiki i kēia ʻano hana ke pāʻani i ka hana o ka holoi ʻana a me ka hoʻomaʻemaʻe kemika.
I kēia manawa, ua lilo ke ʻano hoʻomaʻemaʻe megasonic i ala kūpono no ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i nā lau polishing.
6. ʻO ke ʻano hoʻoheheʻe Rotary:
ʻO ka rotary spray method he ʻano hana e hoʻohana ai i nā ʻano mechanical e hoʻohuli ai i ka wafer i ka wikiwiki kiʻekiʻe, a hoʻomau mau i ka wai (wai deionized kiʻekiʻe-maʻemaʻe a i ʻole ka wai hoʻomaʻemaʻe ʻē aʻe) ma luna o ka ʻili o ka wafer i ka wā o ka hoʻololi ʻana e wehe i nā haumia ma ka. ili o ka wafer.
Ke hoʻohana nei kēia ʻano i ka hoʻohaumia ʻana ma ka ʻili o ka wafer e hoʻoheheʻe ʻia i loko o ka wai i hoʻoheheʻe ʻia (a i ʻole e hana kemika me ia e hoʻoheheʻe), a hoʻohana i ka hopena centrifugal o ka wikiwiki wikiwiki e hoʻokaʻawale i ka wai i loko o ka ʻili o ka wafer. i ka manawa.
Loaʻa i ke ʻano rotary spray ka maikaʻi o ka hoʻomaʻemaʻe kemika, ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i ka mīkini wai, a me ka holoi ʻana i ke kaomi kiʻekiʻe. I ka manawa like, hiki ke hui pū ʻia kēia ʻano me ke kaʻina hoʻomaloʻo. Ma hope o ka manawa o ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i ka wai hoʻomaʻemaʻe wai, hoʻopau ʻia ka ʻōpala wai a hoʻohana ʻia kahi kinoea hoʻoheheʻe. I ka manawa like, hiki ke hoʻonui ʻia ka wikiwiki o ka rotation e hoʻonui i ka ikaika centrifugal e hoʻomaloʻo koke i ka ʻili o ka wafer.
7.Hoʻomaʻemaʻe kemika maloʻo
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe maloʻo e pili ana i ka ʻenehana hoʻomaʻemaʻe ʻaʻole hoʻohana i nā mea hoʻonā.
ʻO nā ʻenehana hoʻomaʻemaʻe maloʻo i hoʻohana ʻia i kēia manawa: ʻenehana hoʻomaʻemaʻe plasma, ʻenehana hoʻomaʻemaʻe gas phase, ʻenehana hoʻomaʻemaʻe beam, etc.
ʻO nā mea maikaʻi o ka hoʻomaʻemaʻe maloʻo he kaʻina maʻalahi a ʻaʻohe haumia kaiapuni, akā kiʻekiʻe ke kumukūʻai a ʻaʻole nui ka laulā o ka hoʻohana ʻana i kēia manawa.
1. ʻenehana hoʻomaʻemaʻe plasma:
Hoʻohana pinepine ʻia ka hoʻomaʻemaʻe plasma i ke kaʻina hoʻoneʻe photoresist. Hoʻokomo ʻia kahi mea liʻiliʻi o ka oxygen i loko o ka ʻōnaehana pane plasma. Ma lalo o ka hana o kahi kahua uila ikaika, hoʻopuka ka oxygen i ka plasma, e hoʻoneʻe koke i ka photoresist i loko o kahi kūlana kinoea volatile a lawe ʻia.
Loaʻa i kēia ʻenehana hoʻomaʻemaʻe nā pono o ka hana maʻalahi, ka hana kiʻekiʻe, ka ʻili maʻemaʻe, ʻaʻohe ʻōpala, a kūpono hoʻi i ka hōʻoia ʻana i ka maikaʻi o ka huahana i ka hana degumming. Eia kekahi, ʻaʻole ia e hoʻohana i nā waikawa, alkalis a me nā mea hoʻoheheʻe organik, a ʻaʻohe pilikia e like me ka hoʻokuʻu ʻana i ka ʻōpala a me ka pollution kaiapuni. No laila, hoʻonui nui ʻia e ka poʻe. Eia nō naʻe, ʻaʻole hiki iā ia ke hoʻoneʻe i ke kalapona a me nā mea metala non-volatile a i ʻole metala oxide haumia.
2. ʻenehana hoʻomaʻemaʻe kinoea.
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i ke kinoea e pili ana i kahi ʻano hoʻomaʻemaʻe e hoʻohana ana i ka māhele kinoea e like me ka mea pili i ke kaʻina wai e launa pū me ka mea haumia ma ka ʻili o ka wafer e hoʻokō i ke kumu o ka wehe ʻana i nā haumia.
No ka laʻana, ma ke kaʻina hana CMOS, hoʻohana ka hoʻomaʻemaʻe wafer i ka pilina ma waena o ka māhele kinoea HF a me ka mahu wai e wehe i nā oxides. ʻO ka mea maʻamau, pono e hui pū ʻia ke kaʻina hana HF i loko o ka wai me kahi kaʻina hoʻoneʻe ʻāpana, ʻoiai ʻo ka hoʻohana ʻana i ka ʻenehana hoʻomaʻemaʻe ʻenehana HF ʻaʻole pono i kahi kaʻina hoʻoneʻe ʻāpana.
ʻO nā pōmaikaʻi nui loa i hoʻohālikelike ʻia i ke kaʻina HF wai ʻoi aku ka liʻiliʻi o ka hoʻohana kemika HF a ʻoi aku ka maikaʻi o ka hoʻomaʻemaʻe.
Welina mai i nā mea kūʻai mai a puni ka honua e kipa mai iā mākou no kahi kūkākūkā hou aku!
https://www.vet-china.com/
https://www.facebook.com/people/Ningbo-Miami-Advanced-Material-Technology-Co-Ltd/100085673110923/
https://www.linkedin.com/company/100890232/admin/page-posts/published/
https://www.youtube.com/@user-oo9nl2qp6j
Ka manawa hoʻouna: ʻAukake-13-2024