Welina mai i kā mākou pūnaewele no ka ʻike huahana a me ke kūkākūkā.
ʻO kā mākou pūnaewele:https://www.vet-china.com/
ʻO ke kālai ʻana o ka Poly a me SiO2:
Ma hope o kēia, ua kālai ʻia ka Poly a me SiO2, ʻo ia hoʻi, wehe ʻia. I kēia manawa, kuhikuhikalai anahoʻohana ʻia. I ka hoʻokaʻawale ʻana o ka etching, aia kahi hoʻokaʻawale o ka etching directional a me ka etching non-directional. Kuhikuhi kuhikuhi ikalai anai kekahi kuhikuhi, oiai non-directional etching mea non-directional (I accidentally olelo nui loa. I ka pōkole, ia e wehe SiO2 ma kekahi kuhikuhi ma o kiko'īʻakika a me nā kumu). Ma kēia laʻana, hoʻohana mākou i ka etching kuhikuhi i lalo e wehe iā SiO2, a lilo ia e like me kēia.
ʻO ka hope, wehe i ka photoresist. I kēia manawa, ʻo ke ʻano o ka wehe ʻana i ka photoresist ʻaʻole ia ka hoʻoulu ʻana ma o ka irradiation māmā i ʻōlelo ʻia ma luna, akā ma o nā ʻano hana ʻē aʻe, no ka mea ʻaʻole pono mākou e wehewehe i kahi nui kikoʻī i kēia manawa, akā e wehe i nā photoresist āpau. ʻO ka hope, lilo ia e like me ka mea i hōʻike ʻia ma ke kiʻi aʻe.
Ma kēia ala, ua hoʻokō mākou i ke kumu o ka mālama ʻana i kahi kikoʻī o ka Poly SiO2.
Ka hoʻokumu ʻana o ke kumu a me ka hoʻokahe:
ʻO ka hope, e noʻonoʻo kākou pehea i hoʻokumu ʻia ai ke kumu a me ke kahawai. Ke hoʻomanaʻo nei ka poʻe a pau ua kamaʻilio mākou no ia mea ma ka helu hope loa. Hoʻokomo ʻia ke kumu a me ka ʻauwai me nā ʻano mea like. I kēia manawa, hiki iā mākou ke hoʻohana i ka photoresist no ka wehe ʻana i ke kumu / wahi hoʻoheheʻe kahi e pono ai ke hoʻokomo ʻia ke ʻano N. No ka mea, lawe wale mākou i ka NMOS ma ke ʻano he laʻana, e wehe ʻia nā ʻāpana āpau o ke kiʻi ma luna, e like me ka hōʻike ʻana ma kēia kiʻi.
No ka mea ʻaʻole hiki ke hoʻokomo ʻia ka ʻāpana i uhi ʻia e ka photoresist (ua ālai ʻia ke kukui), e hoʻokomo wale ʻia nā mea N-type ma ka NMOS i koi ʻia. No ka mea ua pale ʻia ka substrate ma lalo o ka poly e ka poly a me SiO2, ʻaʻole ia e hoʻokomo ʻia, no laila e like me kēia.
I kēia manawa, ua hana ʻia kahi hiʻohiʻona MOS maʻalahi. Ma ke kumumanaʻo, inā hoʻohui ʻia ka volta i ke kumu, ka wai, ka poly a me ka substrate, hiki i kēia MOS ke hana, akā ʻaʻole hiki iā mākou ke lawe wale i kahi ʻimi a hoʻohui pololei i ka volta i ke kumu a me ka wai. I kēia manawa, pono ka uwea MOS, ʻo ia hoʻi, ma kēia MOS, e hoʻohui i nā uwea e hoʻohui i nā MOS he nui. E nānā kākou i ke kaʻina hana uwea.
Hana ʻia VIA:
ʻO ka hana mua e uhi i ka MOS holoʻokoʻa me kahi papa o SiO2, e like me ka mea i hōʻike ʻia ma ke kiʻi ma lalo nei.
ʻOiaʻiʻo, hana ʻia kēia SiO2 e CVD, no ka mea wikiwiki loa a mālama i ka manawa. ʻO kēia ka hana o ka waiho ʻana i ka photoresist a me ka wehe. Ma hope o ka hopena, e like me kēia.
A laila e hoʻohana i ke ʻano hoʻoheheʻe ʻana e kaha i puka ma ka SiO2, e like me ka mea i hōʻike ʻia ma ka ʻāpana hina o ke kiʻi ma lalo nei. Hoʻopili pololei ka hohonu o kēia lua i ka ʻili o Si.
ʻO ka hope, e wehe i ka photoresist a loaʻa i kēia hiʻohiʻona.
I kēia manawa, ʻo ka mea e pono e hana ʻia, ʻo ka hoʻopiha ʻana i ke alakaʻi i loko o kēia lua. He aha kēia alakaʻi? He ʻokoʻa kēlā me kēia hui, ʻo ka hapa nui o lākou he mau tungsten alloys, no laila pehea e hoʻopiha ʻia ai kēia puka? Hoʻohana ʻia ke ʻano PVD (Physical Vapor Deposition), a ua like ke kumu me ka kiʻi ma lalo.
E hoʻohana i nā electrons a i ʻole nā iona kiʻekiʻe e pahū i ka mea i hoʻopaʻa ʻia, a e hāʻule ka mea i haki ʻia i lalo ma ke ʻano o nā mana, a pēlā e hana ai ka uhi ma lalo. ʻO ka mea i hoʻopaʻa ʻia a mākou e ʻike pinepine ai ma ka nūhou e pili ana i ka mea i ʻimi ʻia ma aneʻi.
Ma hope o ka hoʻopiha ʻana i ka lua, ua like me kēia.
ʻOiaʻiʻo, i ka wā e hoʻopiha ai mākou, ʻaʻole hiki ke hoʻomalu i ka mānoanoa o ka uhi e like pono me ka hohonu o ka lua, no laila e hoʻonui ʻia, no laila hoʻohana mākou i ka ʻenehana CMP (Chemical Mechanical Polishing), kani loa. kiʻekiʻe, akā ʻo ka wili maoli, e wili ana i nā ʻāpana keu. Penei ka hopena.
I kēia manawa, ua hoʻopau mākou i ka hana ʻana i kahi papa o via. ʻO kaʻoiaʻiʻo, ʻo ka hana ʻana o ka via ka mea nui no ka wili o ka papa metala ma hope.
ʻO ka hana papa metala:
Ma lalo o nā kūlana i luna, hoʻohana mākou i ka PVD e hoʻoheheʻe i kahi papa o ka metala. ʻO kēia metala ka mea nui i hoʻohuihui keleawe.
A laila ma hope o ka hoʻolaha ʻana a me ka etching, loaʻa iā mākou ka mea a mākou e makemake ai. A laila e hoʻomau i ka hoʻopaʻa ʻana a hiki i kā mākou pono.
Ke kaha mākou i ka hoʻolālā, e haʻi mākou iā ʻoe i ka nui o nā ʻāpana metala a ma o ke kaʻina hana i hiki ke hoʻopaʻa ʻia i ka hapa nui, ʻo ia hoʻi ka nui o nā papa e hiki ke hoʻopaʻa ʻia.
ʻO ka hope, loaʻa iā mākou kēia hoʻolālā. ʻO ka papa luna ka pine o kēia puʻupuʻu, a ma hope o ka hoʻopili ʻana, lilo ia i ka pine a mākou e ʻike ai (ʻoiaʻiʻo, ua huki au iā ia, ʻaʻohe kumu kūpono, no ka laʻana wale nō).
ʻO kēia ka hana maʻamau o ka hana ʻana i kahi chip. Ma kēia pukana, ua aʻo mākou e pili ana i ka ʻike nui loa, etching, implantation ion, furnace tubes, CVD, PVD, CMP, etc. i ka semiconductor foundry.
Ka manawa hoʻouna: ʻAukake-23-2024