O material preferido para pezas de precisión das máquinas de fotolitografía
No campo dos semicondutores,cerámica de carburo de silicioOs materiais utilízanse principalmente en equipos clave para a fabricación de circuítos integrados, como mesa de traballo de carburo de silicio, carrís guía,reflectores, portabrocas de cerámica, brazos, discos abrasivos, accesorios, etc. para máquinas de litografía.
Partes cerámicas de carburo de siliciopara equipos semicondutores e ópticos
● Disco abrasivo cerámico de carburo de silicio. Se o disco de moenda está feito de fundición ou aceiro carbono, a súa vida útil é curta e o seu coeficiente de expansión térmica é grande. Durante o procesamento de obleas de silicio, especialmente durante a moenda ou pulido a alta velocidade, o desgaste e a deformación térmica do disco de moenda fan que sexa difícil garantir a planitude e o paralelismo da oblea de silicio. O disco de moenda feito de cerámica de carburo de silicio ten alta dureza e baixo desgaste, e o coeficiente de expansión térmica é basicamente o mesmo que o das obleas de silicio, polo que se pode moer e pulir a alta velocidade.
● Accesorio cerámico de carburo de silicio. Ademais, cando se producen obleas de silicio, necesitan someterse a un tratamento térmico a alta temperatura e adoitan transportarse mediante accesorios de carburo de silicio. Son resistentes á calor e non destrutivos. Pódense aplicar carbono tipo diamante (DLC) e outros revestimentos na superficie para mellorar o rendemento, aliviar o dano das obleas e evitar a propagación da contaminación.
● Mesa de traballo de carburo de silicio. Tomando como exemplo a mesa de traballo na máquina de litografía, a mesa de traballo é a principal responsable de completar o movemento de exposición, requirindo un movemento de gran precisión, de gran velocidade e de seis graos de liberdade. Por exemplo, para unha máquina de litografía cunha resolución de 100 nm, unha precisión de superposición de 33 nm e un ancho de liña de 10 nm, a precisión de posicionamento da mesa de traballo é necesaria para alcanzar os 10 nm, as velocidades de paso e dixitalización simultáneas da oblea de silicio e máscara son de 150 nm/s. e 120 nm/s respectivamente, e a velocidade de exploración da máscara está próxima 500 nm/s, e a mesa de traballo debe ter unha precisión e estabilidade de movemento moi altas.
Diagrama esquemático da mesa de traballo e da mesa de micro-movemento (sección parcial)
● Espello cadrado de cerámica de carburo de silicio. Os compoñentes clave dos equipos de circuítos integrados clave, como as máquinas de litografía, teñen formas complexas, dimensións complexas e estruturas lixeiras ocas, o que dificulta a preparación de tales compoñentes cerámicos de carburo de silicio. Actualmente, os principais fabricantes internacionais de equipos de circuítos integrados, como ASML nos Países Baixos, NIKON e CANON en Xapón, usan unha gran cantidade de materiais como vidro microcristalino e cordierita para preparar espellos cadrados, compoñentes básicos das máquinas de litografía e usan carburo de silicio. cerámica para preparar outros compoñentes estruturais de alto rendemento con formas sinxelas. Non obstante, os expertos do Instituto de Investigación de Materiais de Construción de China utilizaron tecnoloxía de preparación propietaria para conseguir a preparación de espellos cadrados de cerámica de carburo de silicio de gran tamaño, de forma complexa, moi lixeiros e totalmente pechados e outros compoñentes ópticos estruturais e funcionais para máquinas de litografía.
Hora de publicación: 10-Oct-2024