Fàilte don làrach-lìn againn airson fiosrachadh toraidh agus co-chomhairle.
An làrach-lìn againn:https://www.vet-china.com/
Sgeadachadh Poly agus SiO2:
Às deidh seo, tha cus Poly agus SiO2 air an sgrìobadh air falbh, is e sin, air an toirt air falbh. Aig an àm seo, stiùiridheisdeachdair a chleachdadh. Ann an seòrsachadh etching, tha seòrsachadh de shnàthaid stiùiridh agus eitseáil neo-stiùiridh. Tha seòladh stiùiridh a’ toirt iomradh aireisdeachdann an stiùireadh sònraichte, fhad ‘s a tha searbhag neo-stiùiridh neo-stiùiridh (thuirt mi gun fhiosta cus. Ann an ùine ghoirid, is e SiO2 a thoirt air falbh ann an stiùireadh sònraichte tro searbhagan agus ionadan sònraichte). San eisimpleir seo, bidh sinn a’ cleachdadh sgrìobadh stiùiridh sìos gus SiO2 a thoirt air falbh, agus bidh e mar seo.
Mu dheireadh, thoir air falbh an photoresist. Aig an àm seo, chan e an dòigh air an photoresist a thoirt air falbh an gnìomh tro irradachadh aotrom a chaidh ainmeachadh gu h-àrd, ach tro dhòighean eile, leis nach fheum sinn meud sònraichte a mhìneachadh aig an àm seo, ach an photoresist gu lèir a thoirt air falbh. Mu dheireadh, bidh e mar a chithear san dealbh a leanas.
San dòigh seo, tha sinn air adhbhar a choileanadh a bhith a 'gleidheadh àite sònraichte an Poly SiO2.
Cruthachadh an stòr agus an drèanadh:
Mu dheireadh, leig dhuinn beachdachadh air mar a tha an stòr agus an drèanadh air an cruthachadh. Tha cuimhne aig a h-uile duine fhathast gun do bhruidhinn sinn mu dheidhinn anns an iris mu dheireadh. Tha an stòr agus an drèanadh air an cuir a-steach leis an aon sheòrsa eileamaidean. Aig an àm seo, is urrainn dhuinn photoresist a chleachdadh gus an stòr / raon drèanaidh fhosgladh far am feumar an seòrsa N a chuir a-steach. Leis nach gabh sinn ach NMOS mar eisimpleir, thèid a h-uile pàirt san fhigear gu h-àrd fhosgladh, mar a chithear san fhigear a leanas.
Leis nach urrainnear am pàirt a tha còmhdaichte leis an photoresist a chuir a-steach (tha an solas air a bhacadh), cha tèid eileamaidean seòrsa N a chuir a-steach ach air an NMOS a tha a dhìth. Leis gu bheil an t-substrate fon poly air a bhacadh le poly agus SiO2, cha tèid a chuir a-steach, agus mar sin bidh e mar seo.
Aig an ìre seo, chaidh modal MOS sìmplidh a dhèanamh. Ann an teòiridh, ma thèid bholtadh a chuir ris an stòr, drèanadh, poly agus substrate, faodaidh an MOS seo obrachadh, ach chan urrainn dhuinn dìreach probe a ghabhail agus bholtadh a chuir gu dìreach ris an stòr agus an drèanadh. Aig an àm seo, tha feum air sreangadh MOS, is e sin, air an MOS seo, ceangail uèirichean gus mòran MOS a cheangal ri chèile. Bheir sinn sùil air a 'phròiseas wiring.
A 'dèanamh VIA:
Is e a’ chiad cheum an MOS gu lèir a chòmhdach le còmhdach de SiO2, mar a chithear san fhigear gu h-ìosal:
Gu dearbh, tha an SiO2 seo air a thoirt a-mach le CVD, oir tha e gu math luath agus a ’sàbhaladh ùine. Tha na leanas fhathast na phròiseas airson a bhith a 'leagail photoresist agus a' nochdadh. Às deidh deireadh, tha e coltach ri seo.
An uairsin cleachd an dòigh seiseachaidh gus toll a shnaidheadh air an SiO2, mar a chithear sa phàirt ghlas san fhigear gu h-ìosal. Bidh doimhneachd an toll seo a’ ceangal gu dìreach ri uachdar Si.
Mu dheireadh, thoir air falbh an photoresist agus faigh an coltas a leanas.
Aig an àm seo, is e na dh'fheumar a dhèanamh a bhith a 'lìonadh an stiùiriche anns an toll seo. Dè a th’ anns an stiùiriche seo? Tha gach companaidh eadar-dhealaichte, tha a 'mhòr-chuid dhiubh nan alloidhean tungstain, mar sin ciamar a ghabhas an toll seo a lìonadh? Thathas a’ cleachdadh an dòigh PVD (Tasgaidh Fisiceach Vapor), agus tha am prionnsapal coltach ris an fhigear gu h-ìosal.
Cleachd dealanan no ianan àrd-lùth gus an stuth targaid a spreadhadh, agus tuit an stuth targaid briste chun bhonn ann an cruth dadaman, agus mar sin a’ cruthachadh an còmhdach gu h-ìosal. Tha an stuth targaid a chì sinn mar as trice anns na naidheachdan a’ toirt iomradh air an stuth targaid an seo.
An dèidh an toll a lìonadh, tha e coltach ri seo.
Gu dearbh, nuair a bhios sinn ga lìonadh, tha e do-dhèanta smachd a chumail air tiugh a ’chòmhdaich gus a bhith dìreach co-ionann ri doimhneachd an toll, agus mar sin bidh beagan a bharrachd ann, agus mar sin bidh sinn a’ cleachdadh teicneòlas CMP (Snasachadh Meacanaigeach Ceimigeach), a tha gu math fuaimneach. àrd, ach tha e dha-rìribh a’ bleith, a’ bleith na pàirtean a bharrachd. Tha an toradh mar seo.
Aig an ìre seo, tha sinn air crìoch a chuir air cinneasachadh sreath de via. Gu dearbh, tha cinneasachadh via gu ìre mhòr airson sreangadh an t-sreath meatailt air a chùlaibh.
Riochdachadh còmhdach meatailt:
Fo na cumhaichean gu h-àrd, bidh sinn a 'cleachdadh PVD gus sreath eile de mheatailt a dhoimhneachadh. Tha am meatailt seo gu ìre mhòr na alloy stèidhichte air copar.
An uairsin às deidh dhuinn nochdadh agus msaa, gheibh sinn na tha sinn ag iarraidh. An uairsin lean air adhart a’ cruachadh gus an coinnich sinn ris na feumalachdan againn.
Nuair a bhios sinn a’ tarraing an cruth, innsidh sinn dhut cia mheud sreath de mheatailt agus tron phròiseas a thathar a’ cleachdadh a dh’ fhaodar a chruachadh aig a’ char as motha, a’ ciallachadh cia mheud sreath a ghabhas a chruachadh.
Mu dheireadh, gheibh sinn an structar seo. Is e am pad as àirde prìne a’ chip seo, agus às deidh pacadh, bidh e na phrìne a chì sinn (gu dearbh, tharraing mi air thuaiream e, chan eil brìgh practaigeach ann, dìreach mar eisimpleir).
Is e seo am pròiseas coitcheann airson a bhith a 'dèanamh chip. Anns a 'chùis seo, dh' ionnsaich sinn mun fhoillseachadh as cudromaiche, msaa, a 'toirt a-steach ian, pìoban fùirneis, CVD, PVD, CMP, msaa ann an fhùirneis semiconductor.
Ùine puist: Lùnastal-23-2024