Fáilte chuig ár suíomh Gréasáin le haghaidh faisnéise agus comhairliúchán táirgí.
Ár suíomh Gréasáin:https://www.vet-china.com/
Eitseáil Polai agus SiO2:
Tar éis seo, eitseáiltear an farasbarr Poly agus SiO2 ar shiúl, is é sin, baintear iad. Ag an am seo, treoeitseáilúsáidtear. In aicmiú eitseála, tá aicmiú eitseáil treorach agus eitseáil neamhthreoracha. Tagraíonn eitseáil treorach doeitseáili dtreo áirithe, cé go bhfuil eitseáil neamhthreorach neamhthreorach (dúirt mé an iomarca trí thimpiste. I mbeagán focal, is é SiO2 a bhaint i dtreo áirithe trí aigéid agus bunanna sonracha). Sa sampla seo, úsáidimid eitseáil treo anuas chun SiO2 a bhaint, agus éiríonn sé mar seo.
Ar deireadh, bain an photoresist. Ag an am seo, ní hé an modh chun an photoresist a bhaint ná an gníomhachtú trí ionradaíocht éadrom a luaitear thuas, ach trí mhodhanna eile, toisc nach gá dúinn méid sonrach a shainiú ag an am seo, ach an photoresist go léir a bhaint. Ar deireadh, éiríonn sé mar a thaispeántar san fhigiúr seo a leanas.
Ar an mbealach seo, tá an cuspóir bainte amach againn chun suíomh sonrach an Poly SiO2 a choinneáil.
Foirmiú na foinse agus an draein:
Ar deireadh, déanaimis machnamh ar conas a fhoirmítear an fhoinse agus an draein. Is cuimhin le gach duine fós gur labhair muid faoi san eagrán deireanach. Déantar an fhoinse agus an draein a ian-ionchlannú leis an gcineál céanna dúile. Ag an am seo, is féidir linn photoresist a úsáid chun an fhoinse / limistéar draenála a oscailt nuair is gá an cineál N a ionchlannú. Ós rud é nach nglacann muid ach NMOS mar shampla, osclófar gach cuid san fhigiúr thuas, mar a thaispeántar san fhigiúr seo a leanas.
Ós rud é nach féidir an chuid atá clúdaithe ag an bhfótaresist a ionchlannú (go gcuirtear bac ar an solas), ní dhéanfar eilimintí de chineál N a ionchlannú ach ar an NMOS riachtanach. Ós rud é go bhfuil an tsubstráit faoi na polai blocáilte ag polai agus SiO2, ní dhéanfar é a ionchlannú, agus mar sin bíonn sé mar seo.
Ag an bpointe seo, tá múnla simplí MOS déanta. Go teoiriciúil, má chuirtear voltas leis an bhfoinse, draein, polai agus tsubstráit, is féidir leis an MOS seo oibriú, ach ní féidir linn ach taiscéalaí a ghlacadh agus voltas a chur go díreach leis an bhfoinse agus leis an draein. Ag an am seo, tá gá le sreangú MOS, is é sin, ar an MOS seo, sreanga a nascadh chun go leor MOS a nascadh le chéile. Breathnaímid ar an bpróiseas sreangaithe.
Ag déanamh VIA:
Is é an chéad chéim ná an MOS iomlán a chlúdach le sraith SiO2, mar a thaispeántar san fhigiúr thíos:
Ar ndóigh, tá an SiO2 seo á dtáirgeadh ag CVD, toisc go bhfuil sé an-tapa agus sábhálann sé am. Seo a leanas fós an próiseas a leagan photoresist agus nochtadh. Tar éis an deireadh, tá sé mar seo.
Ansin bain úsáid as an modh eitseála chun poll a eitseáil ar an SiO2, mar a thaispeántar sa chuid liath san fhigiúr thíos. Déanann doimhneacht an poll seo teagmháil dhíreach le dromchla Si.
Ar deireadh, bain an photoresist agus a fháil ar an chuma seo a leanas.
Ag an am seo, is é an méid is gá a dhéanamh ná an seoltóir a líonadh sa pholl seo. Cad é an seoltóir seo? Tá gach cuideachta difriúil, is cóimhiotail tungstain an chuid is mó díobh, mar sin conas is féidir an poll seo a líonadh? Úsáidtear an modh PVD (Taisceadh Gal Fisiciúil), agus tá an prionsabal cosúil leis an bhfigiúr thíos.
Bain úsáid as leictreoin nó iain ardfhuinnimh chun an spriocábhar a bhuamáil, agus beidh an t-ábhar sprice briste ag titim go bun i bhfoirm adamh, rud a chruthóidh an sciath thíos. Tagraíonn an spriocábhar a fheicimid de ghnáth sa nuacht don spriocábhar anseo.
Tar éis an poll a líonadh, breathnaíonn sé mar seo.
Ar ndóigh, nuair a dhéanaimid é a líonadh, tá sé dodhéanta tiús an sciath a rialú a bheith díreach comhionann le doimhneacht an poll, agus mar sin beidh roinnt farasbairr ann, agus mar sin úsáidimid teicneolaíocht CMP (Snasú Meicniúil Ceimiceach), rud a fhuaimeann go mór. ard-deireadh, ach tá sé i ndáiríre meilt, meilt ar shiúl na codanna breise. Is é an toradh mar seo.
Ag an bpointe seo, tá táirgeadh sraithe de via. Ar ndóigh, is é an táirgeadh via go príomha le haghaidh sreangú na ciseal miotail taobh thiar.
Táirgeadh ciseal miotail:
Faoi na coinníollacha thuas, úsáidimid PVD chun ciseal eile miotail a dhoimhniú. Is cóimhiotal copair-bhunaithe den chuid is mó é an miotail seo.
Ansin tar éis nochtadh agus eitseáil, faigheann muid cad ba mhaith linn. Ansin lean ar aghaidh ag cruachadh suas go dtí go gcomhlíonfaimid ár riachtanais.
Nuair a tharraingímid an leagan amach, inseoimid duit cé mhéad ciseal miotail agus tríd an bpróiseas a úsáidtear is féidir a chruachadh ar a mhéad, rud a chiallaíonn cé mhéad ciseal is féidir é a chruachadh.
Ar deireadh, faigheann muid an struchtúr seo. Is é an eochaircheap barr bioráin an sliseanna seo, agus tar éis an phacáistithe, bíonn sé mar an bioráin is féidir linn a fheiceáil (ar ndóigh, tharraing mé go randamach é, níl aon tábhacht phraiticiúil ann, mar shampla).
Is é seo an próiseas ginearálta a dhéanamh sliseanna. Sa tsaincheist seo, d'fhoghlaim muid faoin nochtadh is tábhachtaí, eitseáil, ionchlannú ian, feadáin foirnéise, CVD, PVD, CMP, etc., i dteilgcheárta leathsheoltóra.
Am postála: Lúnasa-23-2024