Nuacht

Cad iad na lochtanna de chomhdhúile sileacain ciseal epitaxial
le admin ar 24-06-05
Is é an croí-theicneolaíocht maidir le fás ábhair epitaxial SiC ná teicneolaíocht rialaithe lochtanna ar dtús, go háirithe maidir le teicneolaíocht rialaithe lochtanna atá seans maith go teip feiste nó díghrádú iontaofachta. An staidéar ar mheicníocht na lochtanna tsubstráit a shíneann isteach sa epi...
Léigh níos mó
Grán seasamh ocsaídithe agus teicneolaíocht fáis epitaxial-Ⅱ
le admin ar 24-05-30
2. Fás scannán tanaí epitaxial Soláthraíonn an tsubstráit ciseal tacaíochta fisiceach nó ciseal seoltaí le haghaidh feistí cumhachta Ga2O3. Is é an chéad chiseal tábhachtach eile an ciseal cainéal nó an ciseal epitaxial a úsáidtear le haghaidh friotaíocht voltais agus iompar iompróra. D'fhonn an voltas miondealaithe a mhéadú agus con...
Léigh níos mó
Ocsaíd Gailliam criostail aonair agus teicneolaíocht fáis epitaxial
le admin ar 24-05-30
Tá aird fhorleathan tugtha ar leathsheoltóirí bandgap leathan (WBG) arna léiriú ag carbíd sileacain (SiC) agus nítríd ghailliam (GaN). Tá ionchais arda ag daoine maidir le hionchais iarratais chomhdhúile sileacain i bhfeithiclí leictreacha agus greillí cumhachta, chomh maith leis na hionchais iarratais ar ghailliam ...
Léigh níos mó
Cad iad na bacainní teicniúla ar chomhdhúile sileacain?Ⅱ
le admin ar 24-05-22
Áirítear ar na deacrachtaí teicniúla maidir le sliseog chomhdhúile sileacain ardchaighdeáin mais-tháirgeadh go cobhsaí le feidhmíocht chobhsaí: 1) Ós rud é go gcaithfidh criostail fás i dtimpeallacht séalaithe ardteochta os cionn 2000 ° C, tá na ceanglais rialaithe teochta an-ard; 2) Ós rud é go bhfuil chomhdhúile sileacain ...
Léigh níos mó
Cad iad na bacainní teicniúla ar chomhdhúile sileacain?
le admin ar 24-05-22
Tá an chéad ghlúin d'ábhair leathsheoltóra léirithe ag sileacain traidisiúnta (Si) agus gearmáiniam (Ge), atá mar bhunús le déantúsaíocht chiorcaid chomhtháite. Úsáidtear go forleathan iad i dtrasraitheoirí agus brathadóirí íseal-voltais, íseal-minicíochta agus ísealchumhachta. Níos mó ná 90% de tháirgí leathsheoltóra...
Léigh níos mó
Conas a dhéantar micrea-phúdar SiC?
le admin ar 24-05-13
Is ábhar leathsheoltóra cumaisc Grúpa IV-IV é criostail shingil SiC atá comhdhéanta de dhá eilimint, Si agus C, i gcóimheas stoichiometric de 1:1. Níl a chruas sa dara háit ach le diamant. Tá an modh laghdaithe carbóin ar ocsaíd sileacain chun SiC a ullmhú bunaithe go príomha ar an bhfoirmle imoibrithe ceimiceach seo a leanas ...
Léigh níos mó
Conas a chuidíonn sraitheanna epitaxial le feistí leathsheoltóra?
le admin ar 24-05-13
Bunús an ainm wafer epitaxial Gcéad dul síos, a ligean ar popularize coincheap beag: folaíonn ullmhú wafer dhá nasc mhór: ullmhú tsubstráit agus próiseas epitaxial. Is wafer é an tsubstráit déanta as ábhar criostail aonair leathsheoltóra. Is féidir leis an tsubstráit dul isteach go díreach sa déantúsaíocht wafer ...
Léigh níos mó
Réamhrá do theicneolaíocht sil-scannán tanaí maidir le sil-leagan ceimiceach gaile (CVD).
le admin ar 24-05-06
Is teicneolaíocht thábhachtach um thaisceadh scannán tanaí é Teistíocht Gal Cheimiceach (CVD), a úsáidtear go minic chun scannáin fheidhmiúla éagsúla agus ábhair shraith tanaí a ullmhú, agus úsáidtear go forleathan é i ndéantúsaíocht leathsheoltóra agus réimsí eile. 1. Prionsabal oibre CVD Sa phróiseas CVD, déantar réamhtheachtaí gáis (ceann amháin nó...
Léigh níos mó
An rún “ór dubh” atá taobh thiar den tionscal leathsheoltóra fótavoltach: an dúil agus an spleáchas ar ghraifít iseastatach
le admin ar 24-05-06
Is ábhar an-tábhachtach é graifít isostatach i bhfótavoltach agus i leathsheoltóirí. Le méadú tapa cuideachtaí grafite isostatach baile, tá monaplacht cuideachtaí eachtracha sa tSín briste. Le taighde agus forbairt neamhspleách leanúnach agus cinn teicneolaíochta, tá an ...
Léigh níos mó