Grafitozko materialaren eskakizunen industria erdieroaleen eskakizunak bereziki altuak dira, grafitoaren partikula finen tamaina zehaztasun handia, tenperatura altuko erresistentzia, indar handia, galera txikia eta beste abantaila batzuk ditu, hala nola: grafito sinterizatutako produktuen moldea.Erdieroaleen industrian erabiltzen diren grafitozko ekipamenduek (berogailuak eta haien trokel sinterizatuak barne) behin eta berriz berotzeko eta hozteko prozesuei aurre egin behar dietelako, grafitozko ekipoen bizitza luzatzeko, normalean erabilitako grafitozko materialek errendimendu egonkorra izatea eskatzen da. eta bero-erresistentzia inpaktu funtzioa.
01 Kristal erdieroaleak hazteko grafitozko osagarriak
Erdieroaleen kristalak hazteko erabiltzen diren prozesu guztiak tenperatura altuetan eta ingurune korrosiboan funtzionatzen dute. Kristalaren hazkuntza-labearen gune beroa normalean bero-erresistentzia eta korrosioarekiko purutasun handiko grafito osagaiez hornituta dago, hala nola, berogailua, arragoa, isolamendu-zilindroa, gida-zilindroa, elektrodoa, arragoa euskarria, elektrodo azkoina, etab.
Kristalak ekoizteko gailuen grafito zati guztiak fabrika ditzakegu, banaka edo multzotan horni daitezke, edo neurri ezberdinetako grafito zati pertsonalizatuak bezeroen eskakizunen arabera. Produktuen tamaina gunean neur daiteke eta amaitutako produktuen errauts edukia txikiagoa izan daiteke5 ppm baino.
02 Epitaxi erdieroaleetarako grafitozko osagarriak
Prozesu epitaxialak kristal bakarreko materialaren geruza baten hazkuntzari egiten dio erreferentzia, substratu kristal bakarreko substratuaren sare-antolaketa bera duena. Prozesu epitaxialean, ostia grafitozko diskoan kargatzen da. Grafitozko diskoaren errendimenduak eta kalitateak ezinbesteko zeregina dute oblearen geruza epitaxialaren kalitatean. Ekoizpen epitaxialaren arloan, purutasun ultra-altuko grafito eta SIC estaldura duten purutasun handiko grafito-oinarri asko behar dira.
Gure konpainiaren epitaxia erdieroaleetarako grafitoaren oinarriak aplikazio ugari ditu, industrian erabili ohi diren ekipo gehienekin bat etor daiteke eta garbitasun handia, estaldura uniformea, zerbitzu-bizitza bikaina eta erresistentzia kimiko eta egonkortasun termiko handia ditu.
03 Grafitozko osagarriak ioiak ezartzeko
Ioien inplantazioak boro, fosforo eta artsenikoaren plasma izpia energia jakin batera bizkortzeko prozesuari egiten dio erreferentzia, eta, ondoren, obleen materialaren gainazaleko geruzan injektatzeko, gainazaleko geruzaren materialaren propietateak aldatzeko. Ioiak ezartzeko gailuaren osagaiak purutasun handiko materialez eginak izango dira, beroarekiko erresistentzia bikaina, eroankortasun termikoa, ioi izpiak eragindako korrosio gutxiago eta ezpurutasun eduki txikia dutenak. Garbitasun handiko grafitoak aplikazio-eskakizunak betetzen ditu, eta hegaldi-hodietarako, hainbat zirrikituetarako, elektrodoetarako, elektrodo-estalkietarako, hodietarako, habe-terminagailuetarako, etab. ioi-inplantaziorako ekipoetarako erabil daiteke.
Ioi inplantatzeko hainbat makinentzako grafitozko estaldura ez ezik, purutasun handiko grafito-elektrodoak eta ioi iturriak ere eskain ditzakegu hainbat zehaztapenen korrosioarekiko erresistentzia handia dutenak. Eredu aplikagarriak: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM eta beste ekipamendu batzuk. Horrez gain, zeramikazko, wolframioko, molibdenozko, aluminiozko produktuak eta estalitako piezak ere eskain ditzakegu.
04 Grafitozko isolamendu-materialak eta beste batzuk
Erdieroaleen produkzio-ekipoetan erabiltzen diren isolamendu termikoko materialen artean grafitozko feltro gogorra, feltro biguna, grafitozko papera, grafitozko papera eta grafitozko soka daude.
Gure lehengai guztiak inportatutako grafitoa dira, bezeroaren eskakizunen tamaina zehatzaren arabera moztu edo osorik saldu daitekeena.
Karbono-karbonozko erretilua film estaldurarako euskarri gisa erabiltzen da eguzki-silizio monokristalinoaren eta silizio polikristalinoaren zelulen ekoizpen-prozesuan. Lan-printzipioa hau da: sartu siliziozko txipa CFC erretiluan eta bidali labeko hodira film estaldura prozesatzeko.
