No uniformidad del bombardeo de iones.
SecoaguafuerteSuele ser un proceso que combina efectos físicos y químicos, en el que el bombardeo de iones es un método de grabado físico importante. durante elproceso de grabado, el ángulo de incidencia y la distribución de energía de los iones pueden ser desiguales.
Si el ángulo de incidencia de los iones es diferente en diferentes posiciones de la pared lateral, el efecto de grabado de los iones en la pared lateral también será diferente. En áreas con ángulos de incidencia de iones más grandes, el efecto de grabado de los iones en la pared lateral es más fuerte, lo que hará que la pared lateral en esta área se grabe más, lo que provocará que la pared lateral se doble. Además, la distribución desigual de la energía iónica también producirá efectos similares. Los iones con mayor energía pueden eliminar materiales de manera más efectiva, lo que resulta en resultados inconsistentes.aguafuertegrados de la pared lateral en diferentes posiciones, lo que a su vez hace que la pared lateral se doble.
La influencia del fotorresistente.
Photoresist desempeña el papel de una máscara en el grabado en seco, protegiendo las áreas que no necesitan ser grabadas. Sin embargo, el fotorresistente también se ve afectado por el bombardeo de plasma y las reacciones químicas durante el proceso de grabado, y su rendimiento puede cambiar.
Si el espesor del fotorresistente es desigual, la tasa de consumo durante el proceso de grabado es inconsistente o la adhesión entre el fotorresistente y el sustrato es diferente en diferentes lugares, puede provocar una protección desigual de las paredes laterales durante el proceso de grabado. Por ejemplo, las áreas con un fotorresistente más delgado o una adhesión más débil pueden hacer que el material subyacente se grabe más fácilmente, lo que hace que las paredes laterales se doblen en estos lugares.
Diferencias en las propiedades del material del sustrato.
El propio material de sustrato grabado puede tener diferentes propiedades, tales como diferentes orientaciones de cristal y concentraciones de dopaje en diferentes regiones. Estas diferencias afectarán la tasa de grabado y la selectividad del grabado.
Por ejemplo, en el silicio cristalino, la disposición de los átomos de silicio en diferentes orientaciones del cristal es diferente, y su reactividad y velocidad de grabado con el gas de grabado también serán diferentes. Durante el proceso de grabado, las diferentes velocidades de grabado causadas por las diferencias en las propiedades del material harán que la profundidad de grabado de las paredes laterales en diferentes ubicaciones sea inconsistente, lo que en última instancia provocará la flexión de las paredes laterales.
Factores relacionados con el equipo
El rendimiento y el estado del equipo de grabado también tienen un impacto importante en los resultados del grabado. Por ejemplo, problemas como la distribución desigual del plasma en la cámara de reacción y el desgaste desigual de los electrodos pueden provocar una distribución desigual de parámetros como la densidad de iones y la energía en la superficie de la oblea durante el grabado.
Además, el control desigual de la temperatura del equipo y las ligeras fluctuaciones en el flujo de gas también pueden afectar la uniformidad del grabado, provocando que las paredes laterales se doblen.
Hora de publicación: 03-dic-2024