Graphite nga adunay TaC coating

I. Proseso nga eksplorasyon sa parameter

1. TaCl5-C3H6-H2-Ar nga sistema

2. Deposition temperatura:

Sumala sa pormula sa thermodynamic, gikalkulo nga kung ang temperatura labaw pa sa 1273K, ang libre nga enerhiya sa Gibbs sa reaksyon ubos kaayo ug ang reaksyon medyo kompleto. Ang reaksyon kanunay nga KP dako kaayo sa 1273K ug paspas nga motaas sa temperatura, ug ang pagtubo nga rate anam-anam nga mohinay sa 1773K.

Impluwensya sa ibabaw nga morphology sa coating: Kung ang temperatura dili angay (taas kaayo o ubos kaayo), ang nawong nagpakita sa usa ka libre nga carbon morphology o loose pores.

(1) Sa taas nga temperatura, ang katulin sa paglihok sa aktibo nga mga atomo sa reactant o mga grupo kusog kaayo, nga mosangpot sa dili patas nga pag-apod-apod sa panahon sa pagtipon sa mga materyales, ug ang mga adunahan ug kabus nga mga lugar dili hapsay nga pagbalhin, nga moresulta sa mga pores.

(2) Adunay kalainan tali sa pyrolysis reaction rate sa alkanes ug sa pagkunhod sa reaksyon rate sa tantalum pentachloride. Ang pyrolysis nga carbon sobra ra ug dili makombinar sa tantalum sa panahon, nga miresulta sa ibabaw nga giputos sa carbon.

Sa diha nga ang temperatura mao ang angay, ang nawong saTaC coatingdasok.

TaCang mga partikulo matunaw ug maghiusa sa usag usa, ang kristal nga porma kompleto, ug ang mga utlanan sa lugas hapsay nga nagbalhin.

3. Hydrogen ratio:

Dugang pa, adunay daghang mga hinungdan nga nakaapekto sa kalidad sa coating:

-Kalidad sa nawong sa substrate

-Deposition gas field

-Ang lebel sa pagkaparehas sa pagsagol sa reactant gas

II. Kasagaran nga mga depekto satantalum carbide coating

1. Coating cracking ug pagpanit

Linear thermal expansion coefficient linear CTE:

2. Pagtuki sa depekto:

(1) Hinungdan:

(2) Pamaagi sa paghulagway

① Gamita ang teknolohiya sa X-ray diffraction aron masukod ang nahabilin nga strain.

② Gamita ang balaod ni Hu Ke aron mabanabana ang nahabilin nga stress.

(3) May kalabotan nga mga pormula

3. Pagpauswag sa mekanikal nga pagkaangay sa coating ug sa substrate

(1) Surface in-situ growth coating

Thermal reaction deposition ug diffusion technology TRD

Proseso sa tinunaw nga asin

Pasimpleha ang proseso sa produksiyon

Ipaubos ang temperatura sa reaksyon

Medyo ubos nga gasto

Mas mahigalaon sa kinaiyahan

Angayan alang sa dinagkong produksiyon sa industriya

(2) Composite transition coating

Proseso sa co-deposition

CVDproseso

Multi-component coating

Paghiusa sa mga bentaha sa matag sangkap

Flexible nga i-adjust ang komposisyon ug proporsyon sa coating

4. Thermal reaction deposition ug diffusion technology TRD

(1) Mekanismo sa Reaksyon

Ang teknolohiya sa TRD gitawag usab nga proseso sa pag-embed, nga naggamit sa boric acid-tantalum pentoxide-sodium fluoride-boron oxide-boron carbide system aron maandamtantalum carbide coating.

① Ang tinunaw nga boric acid motunaw sa tantalum pentoxide;

② Ang tantalum pentoxide gikunhoran ngadto sa aktibong mga atomo sa tantalum ug nagkatag sa ibabaw sa graphite;

③ Aktibo nga tantalum atoms kay adsorbed sa graphite surface ug mo-react sa carbon atoms aron maporma.tantalum carbide coating.

(2) Yawe sa Reaksyon

Ang tipo sa carbide coating kinahanglan nga makatagbaw sa kinahanglanon nga ang pagporma sa oksihenasyon nga libre nga enerhiya sa elemento nga nagporma sa carbide mas taas kaysa sa boron oxide.

Ang libre nga enerhiya sa Gibbs sa carbide igo nga ubos (kon dili, boron o boride mahimong maporma).

Ang Tantalum pentoxide usa ka neutral oxide. Sa taas nga temperatura nga tinunaw nga borax, kini mahimong reaksiyon sa lig-on nga alkaline oxide sodium oxide aron maporma ang sodium tantalate, sa ingon makunhuran ang inisyal nga temperatura sa reaksyon.