No uniformitat del bombardeig iònic
Secagravatsol ser un procés que combina efectes físics i químics, en el qual el bombardeig iònic és un mètode de gravat físic important. Durant elprocés de gravat, l'angle d'incidència i la distribució d'energia dels ions poden ser desiguals.
Si l'angle d'incidència dels ions és diferent a diferents posicions de la paret lateral, l'efecte de gravat dels ions a la paret lateral també serà diferent. A les zones amb angles d'incidència d'ions més grans, l'efecte de gravat dels ions a la paret lateral és més fort, la qual cosa farà que la paret lateral d'aquesta àrea es grava més, fent que la paret lateral es doblegui. A més, la distribució desigual de l'energia iònica també produirà efectes similars. Els ions amb més energia poden eliminar materials de manera més eficaç, donant lloc a inconsistentsgravatgraus de la paret lateral en diferents posicions, cosa que fa que la paret lateral es doblegui.
La influència de la fotoresistència
Photoresist fa el paper d'una màscara en el gravat en sec, protegint les zones que no necessiten ser gravades. Tanmateix, la fotoresistència també es veu afectada pel bombardeig de plasma i les reaccions químiques durant el procés de gravat, i el seu rendiment pot canviar.
Si el gruix de la fotoresist és desigual, la taxa de consum durant el procés de gravat és inconsistent o l'adhesió entre la fotoresist i el substrat és diferent a diferents llocs, pot provocar una protecció desigual de les parets laterals durant el procés de gravat. Per exemple, les àrees amb una fotoresistència més fina o una adhesió més feble poden fer que el material subjacent es pugui gravar més fàcilment, fent que les parets laterals es dobleguin en aquests llocs.
Diferències en les propietats del material del substrat
El material del substrat gravat pot tenir diferents propietats, com ara diferents orientacions de cristalls i concentracions de dopatge en diferents regions. Aquestes diferències afectaran la velocitat de gravat i la selectivitat de gravat.
Per exemple, en el silici cristal·lí, la disposició dels àtoms de silici en diferents orientacions de cristall és diferent, i la seva reactivitat i velocitat de gravat amb el gas de gravat també seran diferents. Durant el procés de gravat, les diferents velocitats de gravat causades per les diferències en les propietats del material faran que la profunditat de gravat de les parets laterals en diferents ubicacions siguin inconsistents, donant lloc a la flexió de les parets laterals.
Factors relacionats amb l'equip
El rendiment i l'estat de l'equip de gravat també tenen un impacte important en els resultats de gravat. Per exemple, problemes com la distribució desigual del plasma a la cambra de reacció i el desgast desigual de l'elèctrode poden provocar una distribució desigual de paràmetres com ara la densitat iònica i l'energia a la superfície de l'hòstia durant el gravat.
A més, el control desigual de la temperatura de l'equip i les lleugeres fluctuacions del flux de gas també poden afectar la uniformitat de l'aiguafort, donant lloc a la flexió de la paret lateral.
Hora de publicació: Dec-03-2024