গ্যালিয়াম আর্সেনাইড-ফসফাইড এপিটাক্সিয়াল স্ট্রাকচার, সাবস্ট্রেট এএসপি টাইপের (ET0.032.512TU) উত্পাদিত কাঠামোর অনুরূপ, এর জন্য। প্ল্যানার লাল LED স্ফটিক উত্পাদন.
মৌলিক প্রযুক্তিগত পরামিতি
গ্যালিয়াম আর্সেনাইড-ফসফাইড কাঠামোতে
1, সাবস্ট্রেটGaAs | |
ক পরিবাহিতা প্রকার | ইলেকট্রনিক |
খ. প্রতিরোধ ক্ষমতা, ওহম-সেমি | 0,008 |
গ. স্ফটিক-জালি অভিযোজন | (100) |
d সারফেস বিভ্রান্তি | (1−3)° |
2. এপিটাক্সিয়াল স্তর GaAs1-х Pх | |
ক পরিবাহিতা প্রকার | ইলেকট্রনিক |
খ. ট্রানজিশন লেয়ারে ফসফরাস কন্টেন্ট | х = 0 থেকে х ≈ 0,4 |
গ. ধ্রুবক রচনা একটি স্তর মধ্যে ফসফরাস বিষয়বস্তু | х ≈ 0,4 |
d ক্যারিয়ার ঘনত্ব, сm3 | (0,2−3,0)·1017 |
e ফটোলুমিনেসেন্স স্পেকট্রামের সর্বোচ্চ তরঙ্গদৈর্ঘ্য, এনএম | 645−673 nm |
চ ইলেক্ট্রোলুমিনেসেন্স বর্ণালীর সর্বোচ্চ তরঙ্গদৈর্ঘ্য | 650−675 nm |
g ধ্রুবক স্তর বেধ, মাইক্রন | কমপক্ষে 8 এনএম |
জ. স্তর বেধ (মোট), মাইক্রন | কমপক্ষে 30 এনএম |
3 এপিটাক্সিয়াল স্তর সহ প্লেট | |
ক বিচ্যুতি, মাইক্রন | সর্বাধিক 100 um |
খ. পুরুত্ব, মাইক্রন | 360–600 um |
গ. বর্গ সেন্টিমিটার | কমপক্ষে 6 সেমি 2 |
d সুনির্দিষ্ট আলোকিত তীব্রতা (diffusionZn পরে), cd/amp | কমপক্ষে 0,05 cd/amp |