Праверка якасці кітайскага прамысловага полікрышталічнага алмазнага парашка 3-6 мкм для сапфіравай пласціны

«Шчырасць, інавацыі, строгасць і эфектыўнасць» - гэта пастаянная канцэпцыя нашай кампаніі на доўгатэрміновую перспектыву, каб развівацца разам з кліентамі для ўзаемнай узаемнасці і ўзаемнай выгады для праверкі якасці Кітайскай прамысловай полікрышталічнайАлмазны парашок3-6 мкм для Sapphire Wafer, мы ўпэўненыя, што зможам прапанаваць пакупнікам высакаякасныя прадукты і рашэнні па разумнай цане, выдатную падтрымку пасля продажу. І мы будзем будаваць энергічны доўгатэрміновы перыяд.
«Шчырасць, інавацыі, строгасць і эфектыўнасць» - гэта пастаянная канцэпцыя нашай кампаніі на доўгатэрміновую перспектыву, каб развівацца разам з кліентамі для ўзаемнай узаемнасці і ўзаемнай выгады дляКітайскі сінтэтычны алмаз, Алмазны парашок, Мы заўсёды настойваем на прынцыпе кіравання "Якасць - перш за ўсё, тэхналогія - аснова, сумленнасць і інавацыі". Мы можам пастаянна распрацоўваць новыя прадукты на больш высокім узроўні, каб задаволіць розныя патрэбы кліентаў.
Апісанне прадукту

Наша кампанія прадастаўляе паслугі па нанясенні пакрыцця SiC метадам CVD на паверхні графіту, керамікі і іншых матэрыялаў, так што спецыяльныя газы, якія змяшчаюць вуглярод і крэмній, рэагуюць пры высокай тэмпературы з атрыманнем малекул SiC высокай чысціні, малекул, асаджаных на паверхні матэрыялаў з пакрыццём, фарміраванне SIC ахоўнага пласта.

Асноўныя характарыстыкі:

1. Устойлівасць да акіслення пры высокіх тэмпературах:

устойлівасць да акіслення па-ранейшаму вельмі добрая, калі тэмпература дасягае 1600 C.

2. Высокая чысціня: вырабляецца шляхам хімічнага асаджэння з паравай фазы ва ўмовах высокатэмпературнага хларавання.

3. Устойлівасць да эрозіі: высокая цвёрдасць, кампактная паверхня, дробныя часціцы.

4. Каразійная ўстойлівасць: кіслоты, шчолачы, солі і арганічныя рэагенты.

Асноўныя характарыстыкі пакрыцця CVD-SIC