Halfgeleier industrie vereistes van grafiet materiaal vereistes is besonder hoog, fyn deeltjie grootte van grafiet het 'n hoë akkuraatheid, hoë temperatuur weerstand, hoë sterkte, klein verlies en ander voordele, soos: gesinterde grafiet produkte vorm.Omdat die grafiettoerusting wat in die halfgeleierbedryf gebruik word (insluitend verwarmers en hul gesinterde matryse) vereis word om herhaalde verhittings- en verkoelingsprosesse te weerstaan, om die lewensduur van grafiettoerusting te verleng, word dit gewoonlik vereis dat die grafietmateriaal wat gebruik word, stabiele werkverrigting het. en hittebestande impakfunksie.
01 Grafiet bykomstighede vir halfgeleier kristal groei
Alle prosesse wat gebruik word om halfgeleierkristalle te laat groei, werk onder hoë temperature en korrosiewe omgewings. Die warm sone van kristalgroei-oond is gewoonlik toegerus met hittebestande en korrosiebestande hoë-suiwer grafietkomponente, soos verwarmer, smeltkroes, isolasiesilinder, leisilinder, elektrode, smeltkroeshouer, elektrodemoer, ens.
Ons kan alle grafietonderdele van kristalproduksietoestelle vervaardig, wat individueel of in stelle verskaf kan word, of pasgemaakte grafietonderdele van verskillende groottes volgens klantvereistes. Die grootte van produkte kan op die terrein gemeet word, en die asinhoud van klaarprodukte kan minder weesas 5 dpm.
02 Grafiet bykomstighede vir halfgeleier epitaksie
Epitaksiale proses verwys na die groei van 'n laag enkelkristalmateriaal met dieselfde roosterrangskikking as die substraat op die enkelkristalsubstraat. In die epitaksiale proses word die wafer op die grafietskyf gelaai. Die werkverrigting en kwaliteit van die grafietskyf speel 'n belangrike rol in die kwaliteit van die epitaksiale laag van die wafer. Op die gebied van epitaksiale produksie is baie ultrahoë suiwer grafiet en hoë suiwer grafietbasis met SIC-bedekking nodig.
Ons maatskappy se grafietbasis vir halfgeleier-epitaksie het 'n wye reeks toepassings, kan ooreenstem met die meeste van die algemeen gebruikte toerusting in die bedryf, en het 'n hoë suiwerheid, eenvormige laag, uitstekende dienslewe en hoë chemiese weerstand en termiese stabiliteit.
03 Grafietbykomstighede vir iooninplanting
Iooninplanting verwys na die proses om die plasmastraal van boor, fosfor en arseen tot 'n sekere energie te versnel, en dit dan in die oppervlaklaag van die wafelmateriaal te spuit om die materiaaleienskappe van die oppervlaklaag te verander. Die komponente van die ioon-inplantingstoestel moet gemaak word van hoë-suiwer materiale met uitstekende hittebestandheid, termiese geleidingsvermoë, minder korrosie veroorsaak deur ioonstraal en lae onsuiwerheidsinhoud. Hoë-suiwer grafiet voldoen aan die toepassing vereistes, en kan gebruik word vir die vlug buis, verskeie splete, elektrodes, elektrode deksels, leipype, beam terminators, ens. van ioon inplanting toerusting.
Ons kan nie net grafiet-afskermbedekking vir verskeie ioon-inplantingsmasjiene verskaf nie, maar bied ook hoë-suiwer grafietelektrodes en ioonbronne met hoë korrosiebestandheid van verskillende spesifikasies. Toepaslike modelle: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM en ander toerusting. Daarbenewens kan ons ook bypassende keramiek, wolfram, molibdeen, aluminium produkte en bedekte dele verskaf.
04 Grafiet isolasie materiale en ander
Termiese isolasiemateriaal wat in halfgeleierproduksietoerusting gebruik word, sluit grafietharde vilt, sagte vilt, grafietfoelie, grafietpapier en grafiettou in.
Al ons grondstowwe is ingevoerde grafiet, wat gesny kan word volgens die spesifieke grootte van die kliënt se vereistes of as 'n geheel verkoop kan word.
Die koolstof-koolstof-skinkbord word gebruik as die draer vir filmbedekking in die vervaardigingsproses van sonkrag monokristallyne silikon en polikristallyne silikonselle. Die werkbeginsel is: plaas die silikonskyfie in die CFC-skinkbord en stuur dit in die oondbuis om die filmbedekking te verwerk.
